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歷經57年半導體黃光LED技術取得突破性進展

2019-03-05 09:00:25

led顯示屏的發(fā)展離不開上游技術的拓展,黃色led芯片經過57年的發(fā)展,可見光LED實現了全彩化,為人類提供了色彩繽紛的視覺盛宴和高效節(jié)能的照明光源??墒情L期以來,七彩LED光效(光功率效率)發(fā)展很不平衡,其中黃光LED光效遠低于其他顏色,致使高光效的黃光不得不通過熒光粉進行波長轉換來獲得。這種“電光光”轉換技術方案是目前LED照明主流技術。但熒光粉在光光轉換過程中存在熱損耗大、熱光衰較大、響應很慢等先天性不足,制約了LED向高質量照明和高速可見光通信等方向的快速發(fā)展。2BNLED顯示屏廠家迷你光電-MNLED

因此,解決“黃光鴻溝”問題,成為該領域誘人的奮斗目標。用何種襯底、何種材料、何種器件結構、何種芯片結構、何種設備才能制造高光效黃光LED?國內外長期未有答案。2BNLED顯示屏廠家迷你光電-MNLED

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圖1 半導體黃光LED電致發(fā)光2BNLED顯示屏廠家迷你光電-MNLED

在兩種黃光材料體系中,AlGaInP隨著波長從紅光變短到黃光,帶隙由直接變?yōu)殚g接,效率急劇下降,這屬于物理瓶頸;而銦鎵氮是直接帶隙,其最大的困難是生長高質量、高銦組分銦鎵氮量子阱材料,這屬于技術瓶頸。黃光LED量子阱中的銦組分約為30%,明顯超過藍光量子阱約15%的銦組分。高銦組分銦鎵氮生長存在很多難點:低生長溫度造成氨裂解少氮空位多、原子遷移慢而表面粗糙、阱壘界面模糊而厚度各異且銦組分不均勻、嚴重時銦偏析相分離、InGaN/GaN強極化帶來載流子波函數交疊少等等。2BNLED顯示屏廠家迷你光電-MNLED

最近南昌大學江風益課題組在Photonics Research 上發(fā)表了文章:Efficient InGaN based Yellow Light-emitting Diodes,展示了在黃光波段LED材料設計和制造技術方面的突破性進展。他們在原有GaN/Si基藍光LED材料、器件結構、芯片結構的基礎上,設計了材料新結構、生長新設備和新工藝。他們把三大失配(熱膨脹系數失配大、帶隙寬度失配大、晶格常數失配大)轉變成了三大優(yōu)點。2BNLED顯示屏廠家迷你光電-MNLED

該課題組發(fā)明了一種網格化的材料生長方法和技術,在襯底上制造有規(guī)則的網格以替代不規(guī)則龜裂,消除了GaN/Si應力累積效應,解決了該材料因龜裂而無法制造發(fā)光芯片的問題,還因保持GaN受張應力而具有生長高性能高銦組分銦鎵氮材料的優(yōu)點。2BNLED顯示屏廠家迷你光電-MNLED

研究人員通過調控電流走向、發(fā)光位置、出光路徑,發(fā)明了高取光效率的硅基LED芯片結構,既解決了襯底吸光和電極擋光問題,還具有單面出光、光束質量高的優(yōu)點。發(fā)展出的新型綜合過渡層,既解決了位錯密度過高的難題,又合理利用位錯形成帶大V坑的器件結構,改善了空穴輸運途徑、提高了LED效率。2BNLED顯示屏廠家迷你光電-MNLED

在將三大失配轉變成三大優(yōu)點的基礎上,他們調控反應氣體輸運途徑和沉積機制,發(fā)明了密集同軸套管結構反應腔,研制出更有利于銦并入的高銦組分銦鎵氮材料生長設備,提升了該材料的生長溫度,減少了記憶效應,使量子阱和壘界面陡峭;在20A/cm2和3 A/cm2電流密度的驅動下,565nm硅基黃光LED光效提高到24.3%和33.7%,分別對應149 lm/W和192 lm/W,從而有效地緩解了黃光鴻溝,解決了國際上LED缺高光效黃光的問題。2BNLED顯示屏廠家迷你光電-MNLED

該材料結構是帶大V坑的具有三維P-N結的硅襯底銦鎵氮多量子阱結構,芯片是單面出光、薄膜型結構。圖2為高光效硅基InGaN黃光LED和硅基板AlGaInP紅光LED組合而成的新型LED路燈,具有模組色溫2190K、顯指66、143 lm/W的暖色調、無熒光粉的特點。2BNLED顯示屏廠家迷你光電-MNLED

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圖2紅黃混光暖色調無熒光粉新型LED路燈應用實例2BNLED顯示屏廠家迷你光電-MNLED

這種路燈既有傳統(tǒng)高壓納燈暖色調的優(yōu)點,又有熒光型LED路燈的節(jié)能優(yōu)勢;既節(jié)省了稀土資源、加快了光響應速度,還避免了熒光型富藍光LED路燈存在的光健康風險,減少了光污染,營造了溫馨健康的道路照明氛圍。2BNLED顯示屏廠家迷你光電-MNLED

高光效黃光LED制造技術的突破,對精細可調的高質量LED照明和高速可見光通信等領域的發(fā)展具有重要意義。2BNLED顯示屏廠家迷你光電-MNLED
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